50%のネオンガスリサイクル率を実現、供給安定化に貢献
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)-- （ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ用光源メーカーのギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市、代表取締役社長：榎波龍雄）は、2026年9月にArFエキシマレーザ向けオンサイトガスリサイクルシステム「hTGM for ArF」を開発したと発表しました。
ArFリソグラフィは、先端半導体の量産工程において現在も重要な役割を担っており、安定したレーザ運用と希ガス資源の有効活用は、半導体メーカーにとって重要な課題となっています。
近年、世界的な地政学的リスクや供給網の混乱により、ネオンガスの需給バランスは大きく変動してきました。ギガフォトンはこれまで、ガス削減技術やKrFエキシマレーザ向けガスリサイクルシステムを通じて、お客様の安定生産を支援してきました。今回発表するhTGM for ArFは、その取り組みをArFリソグラフィ領域へ拡大するものです。
hTGM for ArFは、工場内で使用済みガスを回収・再利用し、ArFレーザにおいて、50%のネオンガスリサイクル率を実現します。年間470kLの処理能力を有し、最大5台のArFエキシマレーザに接続可能です。また、KrF向けhTGMとの高いハードウェア共通性を持ち、効率的な導入とサポートを実現します。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの榎波龍雄氏は、こう述べています。「ギガフォトンは、光源のガス消費削減技術およびオンサイトガスリサイクルシステムを組み合わせることで、レアガスの外部調達リスクを低減し、お客様の安定稼働と半導体業界全体のサプライチェーン強靭化に貢献していきます。ギガフォトンは今後も、先進的なレーザ技術と環境配慮型ソリューションの提供を通じて、世界の半導体産業の発展に貢献してまいります。」
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